本学の研究者・東京工業大学・キオクシア株式会社による「半導体マスクパターンの最適化設計」の研究成果が日経クロステックに掲載

　会津大学、東京工業大学、およびキオクシア株式会社との共同研究の成果が、昨年10月、国際光工学会（The International Society for Optical Engineering, SPIE）が主催する国際会議Photomask Technology（*1）において会津大学の小平行秀上級准教授（*2）によって発表され（*3）、その成果が2024年4月3日付の日経クロステック（*4）に掲載されました。

　この研究は、半導体製造プロセスの重要な一工程であるリソグラフィにおける課題に着目しています。リソグラフィでは、マスクパターンの形状を最適化することで、より微細な半導体の製造を可能にします。本研究では、量子コンピュータの1つの実現方法である量子アニーリング計算機を古典的コンピュータ上で模倣するイジングマシンを利用し、プロセスのばらつき耐性が高いマスクパターンを得るための新たな最適化手法を開発しました。

リソグラフィ工程

マスク最適化

(*1) SPIE Photomask Technology

(*2) 小平 行秀 上級准教授

(*3) 発表論文
Yukihide Kohira, Haruki Nakayama, Naoki Nonaka, Tomomi Matsui, Atsushi Takahashi, Chikaaki Kodama, "A formulation of mask optimization into QUBO model for Ising machines", In Proc. SPIE 12751, Photomask Technology, 127511D, 2023. (doi: 10.1117/12.2687615).

(*4) 日経クロステックの該当記事
キオクシアらが発見、マスクパターン最適化でイジングマシンが生きる